MILPITAS, Kalifornien,
June 7, 2011 /PRNewswire/ --
- Beschleunigung fortgeschrittener Maskenentwicklung und
-fertigung
Heute hat KLA-Tencor Corporation(TM) (NASDAQ: KLAC) die
Auslieferung des ersten LMS IPRO5 Messsystems für Maskenstrukturen
bekannt gegeben. Der Empfänger, das Advanced Mask Technology Center
(AMTC) in Dresden, wird das Messsystem für die Entwicklung seiner
fortgeschrittenen Maskentechnologie einsetzen, welches zur
Qualifizierung der Strukturlagegenauigkeit kritischer Schichten in
integrierten Schaltkreisen der nächsten Generation dient.
Die Entwicklung der LMS IPRO5 wurde in einem Verbundprojekt vom
Bundesministerium für Bildung und Forschung im Rahmen des Projekts
CDuR32, "Critical Dimension und Registration für die 32nm
Maskenlithographie" finanziell unterstützt. Ziel des Projekts
CDuR32 ist es, der Region Dresden, dem führenden Elektronikstandort
in Europa, einen Vorsprung in der Entwicklung und Fertigung
moderner Masken zu verschaffen. CDuR32 entspricht auch den Zielen
des European Nanoelectronics Initiative Advisory Council (ENIAC)
(Initiative des Europäischen Rates zur Etablierung eines
gemeinschaftlichen Unternehmens im Bereich Nanotechnologie) zum
Ausbau der Position des europäischen Marktes in der
Nanotechnologie. Der Zugang zu dieser Spitzen-Messtechnik ist
massgeblich, wenn es darum geht, dass die Maskenspezifikationen die
engen Toleranzen in Grösse und Position für die Herstellung von
Chips der nächsten Generation einhalten.
Die Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB) hat wesentlich
zu dem Projekt beigetragen. Sie entwickelte eine
Referenzmesstechnik für LMS IPRO5, um die Längen- und
Geradheitsmessungen zu validieren und die Kalibrierung des Geräts
zu ermöglichen. Wissenschaftler der PTB erforschten darüber hinaus
mittels grundlegender experimenteller und theoretischer Arbeiten
die Anwendbarkeit der Scatterometrie sowie der Elektronen- und
Rastersondenmikroskopie in der Maskenmesstechnik.
Zu Beginn des Projekts war die LMS IPRO Produktgruppe Teil der
Geschäftseinheit Microelectronic Inspection Equipment (MIE) der
Vistec Semiconductor Systems GmbH. Im September 2008 wurde die MIE-Geschäftseinheit von
KLA-Tencor übernommen. Die Entwicklung und Fertigung der
branchenführenden LMS IPRO Produktlinie bleibt auf deutschem Boden
und zwar in Weilburg. Das zukunftsorientierte LMS IPRO5 unterstützt
die Einhaltung der strengen Präzisionsanforderungen und Normen zur
Qualifizierung der Strukturlagegenauigkeit der Masken für die
modernen Lithographietechniken und 3Xnm bis 2Xnm Chips.
Über KLA-Tencor:
Die KLA-Tencor Corporation (NASDAQ: KLAC), weltweit führender
Anbieter von Prozesskontroll- und Ertragsmanagementlösungen für die
Halbleiterindustrie und zugehörige Branchen, arbeitet mit Kunden
aus aller Welt zur Entwicklung von modernsten Inspektions- und
Messgeräten zusammen. Diese Technologien werden für Halbeiter,
Datenspeicherung, LED, Photovoltaikanlagen und ähnliche Branchen im
Bereich Nanoelektrotechnik verwendet. Mit seinem Portfolio an
Industriestandard-Produkten und seinem Team aus erstklassigen
Ingenieuren und Wissenschaftlern hat das Unternehmen seine Kunden
nunmehr seit 30 Jahren mit hochentwickelten Lösungen beliefert.
KLA-Tencor hat seinen Unternehmenshauptsitz in Milpitas, Kalifornien, und verfügt über
Kundenservicecenter in aller Welt. Weiterführende Informationen
erhalten Sie auf www.kla-tencor.com. (KLAC-P)
Über AMTC:
Die Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG (AMTC) ist
ein Joint Venture von GLOBALFOUNDRIES und Toppan Photomasks. Mit
dem AMTC ist ein weltweit führendes Zentrum für die Entwicklung und
Fertigung moderner Photolithographiemasken entstanden. Kontakt:
Christiane Demmler,
Kommunikationsbeauftragte, 0351-4048-102,
christiane.demmler@amtc-dresden.com. Für weitere Informationen
besuchen Sie bitte http://www.amtc-dresden.de.
Zukunftsgerichtete Aussagen:
Andere Aussagen in dieser Pressemitteilung als historische
Fakten wie etwa bezüglich des erwarteten Erfolgs von LMS IPRO5,
Trends in der Halbleiterindustrie (und die diesbezüglich erwarteten
Herausforderungen), der prognostizierte Nutzen des LMS IPRO5 für
KLA-Tencors Kunden sowie die geschätzten Kosten, betrieblichen und
andere möglichen Vorteile für die Anwender der LMS IPRO5 Anlagen
sind zukunftsgerichtete Aussagen und unterliegen den durch den
Private Securities Litigation Reform Act von 1995 in Kraft
getretenen Safe Harbour-Richtlinien. Diese zukunftsgerichteten
Aussagen basieren auf aktuellen Informationen und Prognosen und
bergen zahlreiche Risiken und Unsicherheiten. Die tatsächlichen
Ergebnisse können massgeblich von den in den Aussagen
prognostizierten Resultaten aufgrund einer Vielzahl von Faktoren
abweichen, wie etwa Verzögerungen im Einsatz neuer Technologien (ob
aufgrund von Kosten- oder
Funktionsproblemen oder anderen Erschwernissen), die Einführung
ähnlicher Produkte durch andere Unternehmen oder unerwartete
technologische Herausforderungen oder Einschränkungen, die die
Implementierung, die Leistung oder den Nutzen der Produkte von
KLA-Tencor beeinflussen.